荷兰半导体设备大厂阿斯麦（ASML）耗时近十年打造的新一代高数值孔径极紫外光光刻机（High-NA EUV）近日亮相
荷兰半导体设备大厂阿斯麦（ASML，又称艾司摩尔）耗时近十年打造的新一代高数值孔径极紫外光光刻机（High-NA EUV）近日亮相。 这台全球最先进、造价超过4亿美元的芯片制造设备，比双层巴士还要大。
据CNBC财经网站报道，这台机器设备由四个模块组成，分别在美国康州、加州、德国和荷兰制造，然后在荷兰费尔德霍芬的实验室组装、测试，然后再次拆卸运出。 ASML负责人表示，需要七架波音747飞机，或至少25辆卡车，才能将一整套系统送到客户手中。
到目前为止，全世界只有五台High-NA EUV正式售出。
芯片尺寸缩小、生产速度加快
High-NA是ASML极紫外光（EUV）设备的新一代版本，其中「NA」代表「数值孔径」，意味着其镜头开口更大，能捕捉更多光线，以更高分辨率描绘芯片电路。
