在全球半导体产业链中，光刻机作为核心设备，一直是技术高地的象征。
日本媒体《日经亚洲》在2025年7月16日的报道中，明确指出中国在半导体制造设备的多个领域已实现显著自给，仅剩光刻这一环节，就能全面掌控先进芯片生产能力，从而跻身全球第三个具备独立光刻机制造能力的国家行列。
美西方对中国的极限打压，反倒倒逼中国加快自主创新。上海微电子、华为等企业已在测量、沉积等多个领域实现突破，还积极适配政策、引导上下游用国产设备。
其实中国早有类似突破先例，1958 年想造万吨水压机，美不卖、苏收紧口子，可中国还是靠自力更生造了出来。如今光刻机虽入门门槛高，但对于勤劳的中国工程师，攻克光刻技术只是时间问题。一旦中国完成"国产替代进口"，日本和荷兰企业的优势恐将不再。
