换道超车光刻机？纳米压印概念异军突起 佳能传来新消息
《科创板日报》10月13日讯今日下午，纳米压印概念股开盘拉升。截至发稿，汇创达涨超9%，美迪凯、晶方科技、利和兴等纷纷跟涨。
消息面上，日本佳能公司释放了纳米压印技术的新消息。10月13日，该公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移。
据介绍，佳能的纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技术可实现最小线宽14nm的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。此外，随着掩模技术的进一步改进，NIL有望实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的"下一代设备"，担负着以低成本制成尖端微细电路的使命。
铠侠、佳能和大日本印刷等公司是该技术路径的主要推动者，正合力研发，规划在2025年将该技术实用化。日经新闻网此前称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量。
纳米压印究竟是什么黑科技？竟能代替复杂的光学光刻技术？
资料显示，纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理。简单来说，传统的光刻设备通过将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案，而纳米压印光刻造芯片则通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，就像印章盖在橡皮泥上，然后经过脱模就能够得到一颗芯片。
